项目概况/overview
本项目为半导体芯片在清洗工序和干燥工序过程中产生的废气,成分为异丙醇,风量为:10000m3/h,峰值浓度114(mg/m3)平均浓度57(mg/m3),项目地点在无锡。
工艺方案/programme
工艺:干式过滤+活性炭吸附+催化燃烧法
方案:废气中含有少量的颗粒物,根据异丙醇的物理性质过滤采用干式过滤器,废气净化设备采用一套CH-001型有机废气净化装置,处理风量10000 m3/h。净化装置主要含干式过滤器、活性炭吸附床、催化燃烧床、混流器、主风机、烟囱等,其中干式过滤器首先消除颗粒物及废气湿度,最后结合活性炭吸附+催化燃烧工艺处理异丙醇有机废气。